Der Zusammenhang zwischen atopischer Dermatitis und dem linearen Wachstum im Kindesalter wird seit Jahren kontrovers diskutiert, ebenso wie der potenzielle Einfluss moderner Biologika auf die Körpergröße. In einer großen retrospektiven Kohortenstudie auf Basis des TriNetX US Collaborative Network untersuchten die Autoren das Risiko für Wachstumsverzögerungen bei Kindern mit atopischer Dermatitis und analysierten zusätzlich den Einfluss einer Behandlung mit Dupilumab im Vergleich zu konventionellen systemischen Immunmodulatoren. Eingeschlossen wurden Kinder und Jugendliche unter 18 Jahren, die zwischen 2018 und 2023 beobachtet wurden. Im Vergleich zu propensity-score-gematchten Kontrollpersonen ohne atopische Dermatitis zeigten betroffene Kinder ein signifikant erhöhtes Risiko, unter die 5., 25. oder 50. Körpergrößenperzentile zu fallen, insbesondere Jungen und Kinder über sechs Jahren. Schlafstörungen und der Einsatz von Kortikosteroiden wirkten dabei als relevante modifizierende Faktoren. Innerhalb der Gruppe mit atopischer Dermatitis war eine Therapie mit Dupilumab jedoch mit einem deutlich reduzierten Risiko für Wachstumsdefizite assoziiert, unabhängig davon, ob die niedrigsten oder mittleren Perzentilen betrachtet wurden. Der schützende Effekt zeigte sich besonders ausgeprägt bei männlichen Patienten, älteren Kindern sowie bei höherem Body-Mass-Index. Obwohl keine Angaben zum Schweregrad der Dermatitis vorlagen, deuten die Ergebnisse darauf hin, dass Dupilumab nicht nur die Krankheitsaktivität kontrolliert, sondern möglicherweise auch wachstumshemmende Effekte der Erkrankung abmildert. Die Autoren betonen vor diesem Hintergrund die Bedeutung einer regelmäßigen Wachstumsüberwachung bei Kindern mit atopischer Dermatitis sowie den potenziellen Stellenwert wachstumsschonender Therapiestrategien.
Quelle:
J Am Acad Dermatol. 2025 Dec;93(6):1471-1480. http://doi.org/10.1016/j.jaad.2025.08.020.
Decreased risk of reduced linear growth among children with atopic dermatitis receiving dupilumab: A cohort study.
Chen TL, Ma SH, Ou WF, Chen CC, Wu CY.
